|
عنوان
|
تخریب فتوکاتالیستی تتراسایکلین با استفاده از نانوذرات روی اکسید قرار گرفته در ماتریس زئولیت Y
|
|
نوع پژوهش
|
مقاله ارائه شده کنفرانسی
|
|
کلیدواژه‌ها
|
زئولیت Y ، تتراسایکلین، تصفیه فتوکاتالیستی، نیمه رسانا ZnO
|
|
چکیده
|
در این تحقیق فتوکاتالیست نانوساختار ZnO/Zeolite Y با استفاده از روش تلقیح و با بارگذاری wt.% 40 نیمهرسانا اکسید روی بر روی پایه زئولیت Y تهیه شد و به منظور ارزیابی ساختار کریستالی پایه، نیمهرسانا و فتوکاتالیستی سنتزی از آنالیز XRD و FESEM بهره گرفته شد. به جهت ارزیابی قابلیت تجزیه نوری نانوذرات اکسید روی تثبیت شده روی پایه زئولیتی Y و نیز بررسی اثر بکارگیری پایه زئولیتی، فتوکامپوزیت سنتز شده به منظور تصفیه پساب آلاییده به آنتیبیوتیک تتراسایکلین تحت تابش نور UV مورد استفاده قرار گرفت و عملکرد فتوکاتالیستی آن با نانوذره ZnO خالص مورد مقایسه قرار گرفت. آنالیز XRD تایید کننده سنتز موفق فتوکاتالیست ها و نیز حضور فازهای کریستالی ZnO و Zeolite Y در ساختار فتوکامپوزیت بود. نتایج آنالیز FESEM نشان می دهد که استفاده از پایه زئولیت Y نه تنها ساختار نیمه رسانا ZnO را تغییر نمی دهد بلکه سبب کاهش تعداد کلوخه ها و انباشتگی ها و کاهش اندازه ذرات می شود. با توجه به نتایج حاصل از تست های راکتوری، فتوکامپوزیت ZnO/Zeolite Y تحت 2 ساعت تابش نور ماوراءبنفش، دوز فتوکاتالیست g/L 0/5 و غلظت 10 ppm آلاینده ، 71% از آلاینده تتراسایکلین حذف می کند.
|
|
پژوهشگران
|
علیرضا فرقانی (نفر چهارم)، روجیار اکبری سنه (نفر سوم)، فرهاد رحمانی چیانه (نفر دوم)، اوین زندی (نفر اول)
|