عنوان
|
اثر تنش خشکی و محلول پاشی اسید سالیسیلیک و اسید آسکوربیک بر رشد، عملکرد، پرولین و خسارت به غشای سلول در دو رقم نخود
|
نوع پژوهش
|
مقاله ارائه شده کنفرانسی
|
کلیدواژهها
|
نخود. تنش خشکی. اسید اسکوربیک. پرولین
|
چکیده
|
به منظور بررسی اثرات تنش خشکی و محلول پاشی اسید آسکوربیک و اسید سالیسیلیک بررشد، عملکرد دانه وبرخی آزمایشی به صورت اسپلیت ،صفات فیزیولوژیکی در دورقم نخود در ایستگاه تحقیقات کشاورزی و منابع طبیعی گریزه سنندج پلات فاکتوریل درقالب طرح بلوک های کامل تصادفی با چهارتکرار مطالعه گردید. در این بررسی تنش خشکی به عنوان - اعمال تنش خشکی 3 - اعمال تنش خشکی در مرحله رویشی 2 فاکتوراصلی در4 سطح (1- آبیاری کامل به عنوان شاهد و محلی کردستان به ILC482 - اعمال تنش خشکی کامل درهر دومرحله رویشی و زایشی و دو رقم نخود 4درمرحله زایشی پی پی 122 پی پی ام) و اسید اسکوربیک ( 222عنوان فاکتور فرعی و ترکیبات تنظیم کننده رشد شامل اسید سالیسیلیک ( ام) به صورت محلول پاشی در ابتدای مرحله رویشی به عنوان فاکتور فرعی در نظر گرفته شدند. نتایج حاصل از این بررسی نشان داد که تنش خشکی سبب کاهش عملکرد دانه، عملکرد بیوماس گردید. از طرفی اعمال تنش خشکی موجب افزایش مقادیر پرولین وخسارت به غشا سلول نخود شد. مصرف اسید آسکوربیک سبب افزایش عملکرد بیوماس نسبت به شاهد (بدون را افزایش دهد. مقدار ILC482 محلول پاشی) گردید. مصرف اسید آسکوربیک توانست در مرحله آبیاری کامل عملکرد دانه رقم پرولین برگ نخود با مصرف اسید سالیسیلیک در تیمارهای آبیاری در رقم کردستان افزایش نشان داد. از طرفی اسید آسکوربیک خسارت به غشا در مرحله آبیاری کامل را نسبت به شاهد ( بدون محلول پاشی) کاهش داد.
|
پژوهشگران
|
اسعد رخزادی (نفر پنجم)، مهرداد یارنیا (نفر چهارم)، حمدالله کاظمی اربط (نفر سوم)، عادل سی و سه مرده (نفر دوم)، سیامک فرجام (نفر اول)
|