عنوان
|
لیتوگرافی تداخل لیزری: شبیه سازی و نتایج تجربی
|
نوع پژوهش
|
مقاله ارائه شده کنفرانسی
|
کلیدواژهها
|
آینه لوید، لیتوگرافی تداخل لیزری، نانو نقش های دوره ای
|
چکیده
|
چندین روش برای ساخت نانوساختارها روی زیر لایه جامد وجود دارد. مانند باریکه یونی کانونی شده (FIB)، لیتوگرافی تداخل لیزری (LIL) و لیتوگرافی باریکه الکترونی (EBL). روش های FIB و EBL بسیار دقیق هستند و می توانند برای ساخت نقش ها در ابعاد نانو استفاده شوند. اما آن ها بسیار پرهزینه و وقت گیر هستند. به هرجهت روش LIL خیلی سریع و ارزان است به علاوه LIL می تواند برای ساخت نانوساختارها در ناحیه های بزرگ استفاده شود. در این مقاله ما با استفاده از برنامه های متلب، نقش های حاصل از تداخل دو یا چند باریکه لیزری روی زیرلایه های پوشیده شده با یک لایه فتورزیست را شبیه سازی کردیم. چندین نقش برای مقایسه نتایج آزمایشگاهی با نتایج شبیه سازی ساخته شدند. نتایج شبیه سازی تطابق خوبی با خروجی های آزمایشگاهی دارند. نتایج نشان می دهند که با افزایش تعداد پرتودهی ها نقش های حاصل شبیه حلقه های هم مرکزی می شوند که اختلاف بین شعاع دو حلقه مجاور برای تمام حلقه ها یکسان است
|
پژوهشگران
|
سیلویا میتلر (نفر سوم)، عبدالله حسن زاده (نفر دوم)، محمد باقر محمد نژاد زنجانی (نفر اول)
|