1403/01/10
هدیه بدخشان

هدیه بدخشان

مرتبه علمی: استادیار
ارکید:
تحصیلات: دکترای تخصصی
اسکاپوس: 25926316800
دانشکده: دانشکده کشاورزی
نشانی:
تلفن:

مشخصات پژوهش

عنوان
مقایسه الگوی متیلاسیون سیتوزین DNA در ارقام مقاوم و حساس به بیماری فوزاریومی نخود
نوع پژوهش
مقاله ارائه شده کنفرانسی
کلیدواژه‌ها
اپی ژنتیک، متیلاسیون سیتوزین DNA، نخود، بیماری پژمردگی فوزاریومی نخود، مارکر MSAP
سال 1393
پژوهشگران پروین محمدی ، بهمن بهرام نژاد ، هدیه بدخشان ، همایون کانونی

چکیده

پاسخ گیاه به تنش برای باروری و زنده ماندن بسیار حائز اهمیت است. متیلاسیون نقش اصلی در تنظیم اپی ژنتیکی بیان ژن در پاسخ به تنش های محیطی دارد. نخود منبع مهمی از پروتئین برای انسان ها و حیوانات است. پژمردگی فوزاریومی ایجاد شده به وسیله Fusarium oxysporum f, sp. Ciceris یک بیماری خاکزاد نخود در سراسر جهان است. در این مطالعه مقایسه الگوی متیلاسیون در سه بافت برگ، ریشه و ساقه رقم Sel95th1716 به عنوان رقم مقاوم و رقم کاکا به عنوان رقم حساس به این بیماری انجام گردید. همچنین مقایسه الگوی متیلاسیون در رقم مقاوم و حساس به پژمردگی فوزاریومی نخود در شرایط بیمار و کنترل انجام گردید. نتایج این مطالعه نشان می دهد که بخش اعظم الگوی باندی متیلاسیون در هر دو رقم و نمونه های سالم در مقایسه با نمونه های بیمار بدون تغییر مانده اند (75/81 درصد). همچنین بیماری پژمردگی فوزاریومی باعث القای دمتیلاسیون بیشتر از متیلاسیون می شود. .نتایج نشان می دهد که واکنش بافت ها و ارقام در پاسخ به تنش متفاوت است، به گونه ای که واکنش به بیماری در برگ ارقام حساس و مقاوم با یکدیگر اختلاف معنی داری نداشتند و این در صورتی است که واکنش بافت های ریشه و ساقه نسبت به بیماری پژمردگی فوزاریومی ارقام حساس و مقاوم متفاوت بودند. طوری که بافت ساقه و ریشه رقم Sel95th1716 بیشتر از رقم کاکا دمتیلاسیون نشان دادند.