1403/09/01
روجیار اکبری سنه

روجیار اکبری سنه

مرتبه علمی: استادیار
ارکید:
تحصیلات: دکترای تخصصی
اسکاپوس: 6542
دانشکده: دانشکده مهندسی
نشانی: سنندج-دانشگاه کردستان-دانشکده مهندسی-گروه مهندسی شیمی-اتاق 206
تلفن:

مشخصات پژوهش

عنوان
تخریب فتوکاتالیستی تتراسایکلین با استفاده از نانوذرات روی اکسید قرار گرفته در ماتریس زئولیت Y
نوع پژوهش
مقاله ارائه شده کنفرانسی
کلیدواژه‌ها
زئولیت Y ، تتراسایکلین، تصفیه فتوکاتالیستی، نیمه رسانا ZnO
سال 1402
پژوهشگران اوین زندی ، فرهاد رحمانی چیانه ، روجیار اکبری سنه ، علیرضا فرقانی

چکیده

در این تحقیق فتوکاتالیست نانوساختار ZnO/Zeolite Y با استفاده از روش تلقیح و با بارگذاری wt.% 40 نیمهرسانا اکسید روی بر روی پایه زئولیت Y تهیه شد و به منظور ارزیابی ساختار کریستالی پایه، نیمهرسانا و فتوکاتالیستی سنتزی از آنالیز XRD و FESEM بهره گرفته شد. به جهت ارزیابی قابلیت تجزیه نوری نانوذرات اکسید روی تثبیت شده روی پایه زئولیتی Y و نیز بررسی اثر بکارگیری پایه زئولیتی، فتوکامپوزیت سنتز شده به منظور تصفیه پساب آلاییده به آنتیبیوتیک تتراسایکلین تحت تابش نور UV مورد استفاده قرار گرفت و عملکرد فتوکاتالیستی آن با نانوذره ZnO خالص مورد مقایسه قرار گرفت. آنالیز XRD تایید کننده سنتز موفق فتوکاتالیست ها و نیز حضور فازهای کریستالی ZnO و Zeolite Y در ساختار فتوکامپوزیت بود. نتایج آنالیز FESEM نشان می دهد که استفاده از پایه زئولیت Y نه تنها ساختار نیمه رسانا ZnO را تغییر نمی دهد بلکه سبب کاهش تعداد کلوخه ها و انباشتگی ها و کاهش اندازه ذرات می شود. با توجه به نتایج حاصل از تست های راکتوری، فتوکامپوزیت ZnO/Zeolite Y تحت 2 ساعت تابش نور ماوراءبنفش، دوز فتوکاتالیست g/L 0/5 و غلظت 10 ppm آلاینده ، 71% از آلاینده تتراسایکلین حذف می کند.